金融界2025年3月21日音讯，国家知识产权局信息数据显现，南昌三盛半导体有限公司获得一项名为“一种用于离子束刻蚀晶圆的冷却设备”的专利，授权公告号CN 222637219 U，请求日期为2024年6月。
专利摘要显现，本实用新型供给一种用于离子束刻蚀晶圆的冷却设备，包含载台、在载台上放置用于固定晶圆的治具、以及在所述载台上设置的用于固定所述治具的固定组织。本实用新型经过载台上的固定组织对治具做固定，接着可经过外部的氦气供给体系，往载台内运送氦气，氦气终究会经过小孔进入到下盘的内部，由此完成对下盘的降温，下盘的温度将传导到晶圆反面，由此完成在对晶圆刻蚀的时分，晶圆的表面温度散布均匀，别的，经过治具对晶圆做固定，可便于对晶圆的固定快速快捷，供给晶圆刻蚀的工作效率，此外，经过缓冲垫的设置在上盘与下盘衔接的时分，缓冲垫可起到缓冲，避免晶圆损坏。
天眼查资料显现，南昌三盛半导体有限公司，成立于2020年，坐落南昌市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册本钱100万人民币，实缴本钱100万人民币。经过天眼查大数据分析，南昌三盛半导体有限公司共对外出资了3家企业，产业线条，此外企业还具有行政许可5个。
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